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本发明公开了一种适用于铜钴互连结构的化学机械抛光液及其制备方法，其中，所述抛光液按照质量分数计，包括研磨颗粒0

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本发明专利公开了具有巨大垂直矫顽力的单晶材料、制备方法和应用，具体涉及单晶材料的技术领域。采用自助溶剂法生长M

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